Mga produkto

Ang synthesis sa bulawan nga nanoparticle sa ibabaw nahimo pinaagi sa paglumlum sa poly(dimethylsiloxane) (PDMS) nga mga pelikula sa tetrachloroauric(III) acid ug chitosan nga solusyon sa temperatura sa lawak ug 4 degrees C. Usa ka importante nga punto sa kasamtangan nga pagtuon mao nga ang synthesis pinili nga nahitabo sa ibabaw sa PDMS.Kini nga mga obserbasyon lahi kaayo sa reaksyon sa solusyon, diin walay mga partikulo nga maporma sa temperatura sa kwarto.Ang pag-compute sa surface plasmon bands (SPBs) base sa Mie theory nagsugyot nga ang mga partikulo partially coated sa chitosan molecules, ug ang experimental results nagpamatuod sa theoretical calculations.Ang gisugyot nga mekanismo mao nga ang mga molekula sa chitosan nga gi-adsorb o giimprinta sa mga ibabaw sa PDMS naglihok isip mga ahente sa pagkunhod / pagpalig-on.Dugang pa, ang mga salida sa PDMS nga adunay pattern nga chitosan mahimo’g mag-aghat sa lokal nga synthesis sa mga nanopartikel nga bulawan sa mga rehiyon nga adunay sulud nga chitosan lamang.Niining paagiha, ang mga colloidal pattern gihimo sa mga ibabaw nga adunay taas nga spa tial selectivity dungan sa synthesis sa mga partikulo.Ang pagpalong sa fluorescence nga gipahinabo sa nawong naobserbahan sa mga rehiyon nga gitakpan usab sa mga nanopartikel nga bulawan.